ABOUT SEMS
연구장비
세종 지역
사용가능
경이온 가속기
Duopigatron 소스를 이용하여 이온 빔 생성 및 가속하는 장치
- 소스의 특성상 높은 전류의 빔을 추출가능하며,
-150KeV까지 가속하여 implantor에서 용도에 맞게 사용한다.
이온 빔 종류 : H, He
이온 빔 에너지 : 20-220keV
이온 빔 전류 : -5mA
장비 설명
Duopigatron 소스를 이용하여 이온 빔 생성 및 가속하는 장치
- 소스의 특성상 높은 전류의 빔을 추출가능하며,
-150KeV까지 가속하여 implantor에서 용도에 맞게 사용한다.
이온 빔 종류 : H, He
이온 빔 에너지 : 20-220keV
이온 빔 전류 : -5mA
주요 특징
- 사용형태: 분석
- 설치형태: 고정형
장비 구성 및 성능
Turbomolecular pump 2ea
Accelerator tube
Gate valve
Transformer
Chiller 2ea
DuoPIGatron
Drift Tube linac
Accelerator tube
Gate valve
Transformer
Chiller 2ea
DuoPIGatron
Drift Tube linac
기본 사양
장비 구분(코드)
주장비
설치지역(관리)
세종 지역
내용연수
0년
장비 용도
분석
이용 정보
사용형태
분석
설치형태
고정형
취득(예정)일
2019-12-19
표준분류체계
C C6 C608
장비활용 예시
○ 반도체, 재료과학, 바이오 등 기초 및 응용과학 분야
- 반도체 소자 제작, 바이오칩 제작 등 미세 공정
- 고분자 표면 개질, 박막 코팅이나 에칭 등
- 금속, 고분자, 세라믹 등 소재의 표면 개질
- 반도체 소자 제작, 바이오칩 제작 등 미세 공정
- 고분자 표면 개질, 박막 코팅이나 에칭 등
- 금속, 고분자, 세라믹 등 소재의 표면 개질
예약 정보
설치위치
고려대학교세종캠퍼스
이용료
미지정
설치기관
세종 지역 - 고려대학교 세종산학협력단
담당자
강지원
연락처
044-860-5831
본 장비의 예약은 전화 문의
담당자 정보
보유기관 장비 관리자
설치기관 장비 관리자