ABOUT SEMS
Duopigatron 소스를 이용하여 이온 빔 생성 및 가속하는 장치
- 소스의 특성상 높은 전류의 빔을 추출가능하며,
-150KeV까지 가속하여 implantor에서 용도에 맞게 사용한다.
이온 빔 종류 : H, He
이온 빔 에너지 : 20-220keV
이온 빔 전류 : -5mA
Turbomolecular pump 2ea
Accelerator tube
Gate valve
Transformer
Chiller 2ea
DuoPIGatron
Drift Tube linac
| 기본 사양 | |
|---|---|
| 내용연수 | 0년 |
| 이용 정보 | |
| 취득일 | 2019-12-19 |
기관 규칙에 따른 할인이 적용될 수 있습니다.
장비 관리자 1