본 Lucida D100 ALD(Atomic Layer Deposition)시스템은 High-K 유전막 또는 투명전도막이나 다양한 용도의 산화물박막 제작을 위한 증착장비로서 다양한 반응가스와 Precursor를 이용하여 Si 기판 또는 유리나 기타 소재의 기판 위에 원자층 단위로 박막을 증착하는 장비이며 thermal방식의 기판히터만으로 열에너지를 가하여 다양한 oxide형성이 가능하고 원자층 증착박막 특유의 step coverage가 탁월하여 다양한 소자 구조 하에서 기판과 산화물과의 계면에서 상호작용에 대한 연구가 가능하고 transistor뿐 아니라 태양전지 소자 및 display등의 소자 제작에 최적의 물질과 공정조건을 수립하는 연구를 수행할 수 있는 장비이다.