ABOUT SEMS
연구장비
기타 지역
사용가능
원자층 증착장비
Lucida D100
장비 설명
본 Lucida D100 ALD(Atomic Layer Deposition)시스템은 High-K 유전막 또는 투명전도막이나 다양한 용도의 산화물박막 제작을 위한 증착장비로서 다양한 반응가스와 Precursor를 이용하여 Si 기판 또는 유리나 기타 소재의 기판 위에 원자층 단위로 박막을 증착하는 장비이며 thermal방식의 기판히터만으로 열에너지를 가하여 다양한 oxide형성이 가능하고 원자층 증착박막 특유의 step coverage가 탁월하여 다양한 소자 구조 하에서 기판과 산화물과의 계면에서 상호작용에 대한 연구가 가능하고 transistor뿐 아니라 태양전지 소자 및 display등의 소자 제작에 최적의 물질과 공정조건을 수립하는 연구를 수행할 수 있는 장비이다.
장비 구성 및 성능
1. 공정챔버 모듈
1) 챔버형태:수평형 실린더형태(Traveling wave type), Batch Type(수량 :５장), Wafer Cassette
2) 크기: Approx. Ø250 x 50 Hmm
3) 소재: SUS316(전해연마) &Al6061(아노다이징)
| 기본 사양 | |
|---|---|
| 모델명 | Lucida D100 |
| 제작국가 | 대한민국 |
| 내용연수 | 0년 |
| 이용 정보 | |
| 취득일 | 2015-10-22 |
예약 정보
설치위치
고려대학교 세종캠퍼스 약학대학연구실험동
이용료
미지정
기관 규칙에 따른 할인이 적용될 수 있습니다.
설치기관
기타 지역 - 고려대학교 산학협력단
담당자 정보
장비 관리자 1
본 장비의 예약은 전화 문의
주요 특징
- ZEUS 관리번호 NFEC-2016-05-209425
- 사용형태: 검사
- 설치형태: 고정형